7 月 6 日消息，據(jù)證券時(shí)報(bào)，針對有媒體報(bào)道 ASML 試圖規(guī)避荷蘭新銷售許可禁令，面向中國市場推出特別版 DUV 光刻機(jī)事宜，7 月 6 日午后，ASML 回應(yīng)稱：一直以來 ASML 都遵守所適用的法律條例，公司并沒有面向中國市場推出特別版的光刻機(jī)。

此前據(jù) DigiTimes 報(bào)道，ASML 試圖規(guī)避荷蘭新銷售許可禁令，面向中國市場推出特別版 DUV 光刻機(jī)。消息稱，如果該項(xiàng)目繼續(xù)推進(jìn)，中芯國際、華虹等中國半導(dǎo)體企業(yè)可以繼續(xù)使用荷蘭的設(shè)備生產(chǎn) 28 納米及更成熟工藝的芯片。

此前荷蘭方面正式宣布了最新的決定，要求企業(yè)出口先進(jìn)設(shè)備前需要獲得許可證，新規(guī)將在 9 月 1 日生效。在荷蘭新規(guī)出臺之后，ASML 表示，根據(jù)新出口管制條例規(guī)定，該公司需要向荷蘭政府申請出口許可證才能發(fā)運(yùn)最先進(jìn)的浸潤式 DUV 系統(tǒng) (即 TWINSCANNXT：2000i 及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng))。荷蘭政府將決定是否授予或拒發(fā)出口許可證，并將向 ASML 提供許可證所附條件的細(xì)節(jié)。

ASML 在聲明中重點(diǎn)指出，荷蘭政府新頒布的出口管制條例只涉及 TWINSCANNXT：2000i 及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng) (DUV，深紫外光刻)。而該公司的 EUV 光刻 (極紫外光刻) 系統(tǒng)在此前已經(jīng)受到限制，其他系統(tǒng)的發(fā)運(yùn)暫未受荷蘭政府管控。