導(dǎo)讀:新思科技近日宣布,在雙方的長期合作中,三星晶圓廠已經(jīng)通過新思科技數(shù)字和定制設(shè)計工具和流程實現(xiàn)了多次成功的測試流片,從而更好地推動三星的3納米全環(huán)繞柵極(GAA)技術(shù)被采用于對功耗、性能和面積(PPA)要求極高的應(yīng)用中。與三星SF5E工藝相比,采用三星晶圓廠SF3技術(shù)的共同客戶將實現(xiàn)功耗降低約50%,性能提高約30%,面積縮小30%左右。(全球TMT)
新思科技近日宣布,在雙方的長期合作中,三星晶圓廠已經(jīng)通過新思科技數(shù)字和定制設(shè)計工具和流程實現(xiàn)了多次成功的測試流片,從而更好地推動三星的3納米全環(huán)繞柵極(GAA)技術(shù)被采用于對功耗、性能和面積(PPA)要求極高的應(yīng)用中。與三星SF5E工藝相比,采用三星晶圓廠SF3技術(shù)的共同客戶將實現(xiàn)功耗降低約50%,性能提高約30%,面積縮小30%左右。(全球TMT)