技術(shù)
導(dǎo)讀:業(yè)界認(rèn)為,臺(tái)積電先進(jìn)封裝技術(shù)持續(xù)向前,未來更能鞏固蘋果、輝達(dá)等大客戶訂單,擴(kuò)大與三星、英特爾等勁敵的差距。
臺(tái)積電卓越科技院士暨研發(fā)副總余振華昨指出,臺(tái)積電先進(jìn)封裝3D Fabric平臺(tái)已率先進(jìn)入新階段的系統(tǒng)微縮,將能為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)提供更多價(jià)值。業(yè)界看好,臺(tái)積電先進(jìn)封裝技術(shù)持續(xù)進(jìn)化,有利協(xié)助客戶降低成本、創(chuàng)造更多創(chuàng)新發(fā)展,并持續(xù)推進(jìn)與超越摩爾定律。
臺(tái)積電釋出先進(jìn)封裝趨勢藍(lán)圖更新至系統(tǒng)微縮,相關(guān)先進(jìn)封裝技術(shù)推進(jìn),有助于改善IC設(shè)計(jì)、品牌客戶關(guān)注的成本問題,并促成后段先進(jìn)制程接單擴(kuò)大,目前蘋果、英偉達(dá)等一線大廠都已採用臺(tái)積電先進(jìn)封裝。業(yè)界認(rèn)為,臺(tái)積電先進(jìn)封裝技術(shù)持續(xù)向前,未來更能鞏固蘋果、輝達(dá)等大客戶訂單,擴(kuò)大與三星、英特爾等勁敵的差距。
余振華指出,臺(tái)積的3D Fabric平臺(tái)已建立且率先進(jìn)入新階段,已從異質(zhì)整合、系統(tǒng)整合到現(xiàn)在的系統(tǒng)微縮,相關(guān)發(fā)展類似系統(tǒng)單晶片(SoC)的微縮,講究效能耗能與尺寸微縮,系統(tǒng)微縮新階段則是追求更高系統(tǒng)效能、更低耗能,以及更緊密尺寸變成體積上的精進(jìn)。
余振華提到,異質(zhì)整合技術(shù)在臺(tái)積電從倡議到開花結(jié)果,已變成業(yè)界新顯學(xué),將能為半導(dǎo)體提供更多價(jià)值。相信不論前段制程或后段制程產(chǎn)業(yè)都樂見半導(dǎo)體的這樣的發(fā)展。臺(tái)積電也觀察到,目前系統(tǒng)微縮類似SoC已從過去在效能、功耗及面積進(jìn)一步升級(jí),轉(zhuǎn)為追求體積微縮。
不過,相關(guān)技術(shù)發(fā)展也有兩大挑戰(zhàn),第一個(gè)是成本控制,在成本控制上,因?yàn)橄冗M(jìn)封裝是微米等級(jí),但目前制程早已進(jìn)入奈米,制程整合若運(yùn)用臺(tái)積BEOL前段制程或傳統(tǒng)封裝設(shè)備切入都需要改善,比如銅制程設(shè)備成本就是一個(gè)挑戰(zhàn),控制不是問題,但導(dǎo)線寬度大小、時(shí)間消耗都較多是成本問題。
第二則是精準(zhǔn)度,余振華說,借重BEOL前段制程來說,相關(guān)材料成本控制與效率是挑戰(zhàn),但若用傳統(tǒng)后段的設(shè)備來做,則有精準(zhǔn)度的挑戰(zhàn),這兩種挑戰(zhàn)都是希望產(chǎn)業(yè)上下游一起來努力,也由SEMI扮演中間者來共同推進(jìn)。
余振華昨日還強(qiáng)調(diào),異質(zhì)整合封裝領(lǐng)域很廣,臺(tái)積電和日月光雙方?jīng)]真正互相競爭,而是共創(chuàng)價(jià)值。
余振同時(shí)華強(qiáng)調(diào),異質(zhì)整合讓供應(yīng)鏈有更多發(fā)揮空間,也讓日月光與臺(tái)積電不再扮演傳統(tǒng)的角色,而是借重大家的長處,同樣往中間(異質(zhì)封裝)移動(dòng)。
余振華指出,異質(zhì)封裝的領(lǐng)域很廣,比如高速運(yùn)算(HPC)相關(guān)應(yīng)用,“日月光有他的角度,臺(tái)積電有自己的角度”,雙方?jīng)]真正互相競爭,也沒干擾,并且各自提供擁有自身長處的異質(zhì)整合技術(shù),同樣創(chuàng)造價(jià)值,并讓產(chǎn)業(yè)更完整。