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臺(tái)積電的3nm工藝將在2022年下半年大規(guī)模量產(chǎn)

2021-01-18 08:05 TechWeb

導(dǎo)讀:而產(chǎn)業(yè)鏈人士透露,在臺(tái)積電計(jì)劃的2021年資本支出中,預(yù)計(jì)有超過(guò)150億美元將投向3nm工藝。

1月15日消息,據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,根據(jù)臺(tái)積電公布的計(jì)劃,他們的3nm工藝,計(jì)劃在今年風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn),2022年下半年大規(guī)模量產(chǎn)。

從此前的報(bào)道來(lái)看,臺(tái)積電3nm工藝的芯片生產(chǎn)工廠的主要建筑,在去年11月份就已經(jīng)建成,接下來(lái)需要進(jìn)行的是設(shè)備安裝等工作。

由于3nm工藝需要大量的極紫外光刻機(jī)等先進(jìn)設(shè)備,工廠設(shè)備的投資也將非常巨大,加之繼續(xù)研發(fā)和風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)方面的投入,臺(tái)積電今年在3nm工藝是上的投入預(yù)計(jì)會(huì)非常龐大。

而產(chǎn)業(yè)鏈人士透露,在臺(tái)積電計(jì)劃的2021年資本支出中,預(yù)計(jì)有超過(guò)150億美元將投向3nm工藝。

臺(tái)積電在財(cái)報(bào)中披露的2021年資本支出預(yù)期,是250億美元到280億美元,消息人士透露的超過(guò)150億美元,也就意味著臺(tái)積電今年超過(guò)半數(shù)的資本支出,將投向3nm工藝。